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水晶技術(shù)之微納光學(xué)系列 | 光的百變魔術(shù)師DOE

來源:

2024.10.18

26724

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水晶技術(shù)之微納光學(xué)系列 | 光的百變魔術(shù)師DOE


引言    

DOE(Diffraction optical Element衍射光學(xué)元件),微觀上可以改變不同位置的傳播速度進(jìn)而改變波前,實現(xiàn)光束的衍射應(yīng)用。尤其是上世紀(jì)梅曼發(fā)明第一臺紅寶石激光器之后,讓相干光束的制備變得容易,因此對于光的調(diào)制不再局限于透鏡,棱鏡等,基于衍射光學(xué)的DOE開始蓬勃發(fā)展。


原理&應(yīng)用

光束在傳播相同時間內(nèi),光程長的走的慢,光程短的走的快,波陣面就會轉(zhuǎn)向,意味著光束偏折了。而DOE可用微結(jié)來構(gòu)制造不同的光程差,應(yīng)用薄元件近似來改變相位,從而實現(xiàn)光束的調(diào)制。其發(fā)展至今,在應(yīng)用上分成三個方向:整形,分束,聚焦。


整形在近,遠(yuǎn)場均可實現(xiàn)平頂型,M型,圖案定制等光束整形。在激光加工,醫(yī)美激光,光纖耦入,武器瞄點,3D傳感中均有應(yīng)用;


分束應(yīng)用光柵衍射級來實現(xiàn),包含一維&陣列分束。在結(jié)構(gòu)光方案中的散斑復(fù)制,激光多路加工,激光雷達(dá)多路感測中均有應(yīng)用;


聚焦包含單點,多點,線段聚焦等等。主要集中在激光加工領(lǐng)域中,切割,裂片,倒角等等。


整形

整形有勻化,形貌兩類側(cè)重。勻化側(cè)重的方案除DOE&自由曲面之外,還有單片隨機(jī)MLA(micro lens array微透鏡陣列),陣列MLA模組勻化等方案,如圖1。

圖片

圖1 左上圖陣列MLA模組勻化方案[1]; 右上圖單DOE實現(xiàn)方形勻化和整形[1]; 左下圖自由曲面實現(xiàn)光束整形[1]; 右下圖隨機(jī)MLA整形方案[2]


側(cè)重形貌的整形方案集中在DOE&自由曲面上。相比MLA類方案的整形,其邊緣會更為銳利,相對的角度會更小一些。最常見的就是對單色高斯基模進(jìn)行遠(yuǎn)場圓形,方形平頂整形,見圖2。此外還有其他整形比如方形,環(huán)形,甜甜圈形等等,理論上任意形貌均可實現(xiàn)。


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圖2  從左到右為圓形,方形,甜甜圈形,環(huán)形整形[5]



比如在光纖耦入端,十分強(qiáng)調(diào)光強(qiáng)分布曲線,整形的靈活性為其提供了調(diào)制的可能。武器的激光瞄點需要十字的標(biāo)識,該特制的光斑形貌需要整形才能來完成。在掃地機(jī)器人的避障感測模組,需要輸出細(xì)線形光斑,也需要整形來搭配實現(xiàn)。


分束

相比于靠膜層透反射分束的cubic-PBS,分束DOE依賴光柵的周期結(jié)構(gòu)來調(diào)制衍射級的能量。分束DOE的微結(jié)構(gòu)也是周期化的,按照周期方向可分成一維和二維光柵,見圖4。


投射器模組中的vcsel光源本身的幾百個孔徑遠(yuǎn)不夠模組上萬點的要求,需要DOE進(jìn)行分束復(fù)制才能實現(xiàn),見圖3。模組的主要組成部分即為光源,lens,DOE等組成,見圖4。


圖片

圖3  vcsel經(jīng)過DOE分束復(fù)制后的大量散斑[6]



圖片

圖4  上圖為DOE陣列分束的光路示意圖[5]; 左下圖為一維光柵1*9分束,右下圖為二維光柵5*5分束[7]。


由分束DOE組成的透射器模組,主要服務(wù)于3D深度感測,在結(jié)構(gòu)光方案和dTOF方案中均有應(yīng)用。落地應(yīng)用主要在智能家具掃地機(jī)器人和人臉識別的門鎖,手機(jī)終端的人臉識別和無人機(jī)測繪掃描中。


聚焦

聚焦DOE按照焦點類型分成單焦點,多焦點,連續(xù)聚焦,相比整形DOE在XOY平面的光強(qiáng)調(diào)制,聚焦DOE是在z軸上的光強(qiáng)調(diào)制。在激光加工的應(yīng)用中,切割的材料厚度需要和激光焦深匹配。當(dāng)切割材料過厚對應(yīng)的焦深也要增加,一種辦法就是采用多焦點,另一種就是連續(xù)聚焦。

圖片

圖5  上圖為多焦點的光路示意圖;下圖為z軸上3個焦點的分布[8]


隨著自動化加工的要求越來越高,所有切削更高厚度,定制化倒角,以及切割面粗糙度的處理,都對聚焦DOE提出了更高的要求。


工藝加工

一般小FOV的DOE,均可以采用多階化(8階甚至16階)的結(jié)構(gòu)來實現(xiàn)。加工方式可以分成刻蝕DOE以及納米壓印DOE。刻蝕DOE耐熱性,可靠性更高,更適合極端條件下工作,納米壓印DOE成本更低,更適合消費電子類低成本的應(yīng)用。


圖片


圖6   DOE的刻蝕模板加工過程

a 掩模版轉(zhuǎn)移到光刻膠上;b 膠結(jié)構(gòu)刻蝕到玻璃基材上

c 得到DOE[6]


[1]Homburg, Oliver et al. “Efficient beam shaping for highpower laser applications.” Laser Technik Journal 4 (2007): 44-47.

[2]Xue, L.; Pang, Y.; Liu, W.; Liu, L.; Pang, H.; Cao, A.; Shi, L.; Fu, Y.; Deng, Q. Fabrication of Random Microlens Array for Laser Beam Homogenization with High Efficiency. Micromachines 2020, 11, 338.

[3]Fienup, James R.. “Phase retrieval algorithms: a comparison.” Applied optics 21 15 (1982): 2758-69.
[4]Rudnaya S , Misemer D , Santosa F .Rational design of a diffractive homogenizer for a laser beam[J].Journalof Engineering Mathematics, 2002,43(2/4) : 189-199.

[5]Katz, S., Kaplan, N. and Grossinger, I. (2018), Using Diffractive Optical Elements. LTJ, 15: 29-32

[6]https://www.digigram.com.tw/en/prd/vesel

[7]Umhofer, Udo, Erwin J?ger and Christian Bischoff. “Refractive and diffractive laser beam shaping optics.” Laser Technik Journal 8 (2011): 24-27.

[8]Doskolovich LL, Bezus EA, Morozov AA, et al. Multifocal diffractive lens generating several fixed foci at different design wavelengths. Optics Express. 2018 Feb;26(4):4698-4709



微納研究所

水晶光電微納研究所,專注于微納光學(xué)新產(chǎn)品市場技術(shù)調(diào)研及研發(fā)工作。通過自編算法與設(shè)計,配備同行業(yè)高端設(shè)備,具備芯片鍍膜、晶圓光刻、干/濕法刻蝕、納米壓印等核心技術(shù)開發(fā)和量產(chǎn)能力。目前微納所已開發(fā)的產(chǎn)品包括DOE、擴(kuò)散片、PBS偏振片、超透鏡等,廣泛應(yīng)用于消費電子、車載HUD等領(lǐng)域,可以根據(jù)客戶需求提供從產(chǎn)品設(shè)計開發(fā)到量產(chǎn)制造一站式服務(wù)。






                


 引言


DOE(Diffraction optical Element衍射光學(xué)元件),微觀上可以改變不同位置的傳播速度進(jìn)而改變波前,實現(xiàn)光束的衍射應(yīng)用。尤其是上世紀(jì)梅曼發(fā)明第一臺紅寶石激光器之后,讓相干光束的制備變得容易,因此對于光的調(diào)制不再局限于透鏡,棱鏡等,基于衍射光學(xué)的DOE開始蓬勃發(fā)展。


原理&應(yīng)用


光束在傳播相同時間內(nèi),光程長的走的慢,光程短的走的快,波陣面就會轉(zhuǎn)向,意味著光束偏折了。而DOE可用微結(jié)來構(gòu)制造不同的光程差,應(yīng)用薄元件近似來改變相位,從而實現(xiàn)光束的調(diào)制。其發(fā)展至今,在應(yīng)用上分成三個方向:整形,分束,聚焦。


整形在近,遠(yuǎn)場均可實現(xiàn)平頂型,M型,圖案定制等光束整形。在激光加工,醫(yī)美激光,光纖耦入,武器瞄點,3D傳感中均有應(yīng)用;


分束應(yīng)用光柵衍射級來實現(xiàn),包含一維&陣列分束。在結(jié)構(gòu)光方案中的散斑復(fù)制,激光多路加工,激光雷達(dá)多路感測中均有應(yīng)用;


聚焦包含單點,多點,線段聚焦等等。主要集中在激光加工領(lǐng)域中,切割,裂片,倒角等等。


整形

整形有勻化,形貌兩類側(cè)重。勻化側(cè)重的方案除DOE&自由曲面之外,還有單片隨機(jī)MLA(micro lens array微透鏡陣列),陣列MLA模組勻化等方案,如圖1。



圖1 左上圖陣列MLA模組勻化方案[1]; 右上圖單DOE實現(xiàn)方形勻化和整形[1]; 左下圖自由曲面實現(xiàn)光束整形[1]; 右下圖隨機(jī)MLA整形方案[2]


側(cè)重形貌的整形方案集中在DOE&自由曲面上。相比MLA類方案的整形,其邊緣會更為銳利,相對的角度會更小一些。最常見的就是對單色高斯基模進(jìn)行遠(yuǎn)場圓形,方形平頂整形,見圖2。此外還有其他整形比如方形,環(huán)形,甜甜圈形等等,理論上任意形貌均可實現(xiàn)。


圖2  從左到右為圓形,方形,甜甜圈形,環(huán)形整形[5]


比如在光纖耦入端,十分強(qiáng)調(diào)光強(qiáng)分布曲線,整形的靈活性為其提供了調(diào)制的可能。武器的激光瞄點需要十字的標(biāo)識,該特制的光斑形貌需要整形才能來完成。在掃地機(jī)器人的避障感測模組,需要輸出細(xì)線形光斑,也需要整形來搭配實現(xiàn)。


分束

相比于靠膜層透反射分束的cubic-PBS,分束DOE依賴光柵的周期結(jié)構(gòu)來調(diào)制衍射級的能量。分束DOE的微結(jié)構(gòu)也是周期化的,按照周期方向可分成一維和二維光柵,見圖4。


投射器模組中的vcsel光源本身的幾百個孔徑遠(yuǎn)不夠模組上萬點的要求,需要DOE進(jìn)行分束復(fù)制才能實現(xiàn),見圖3。模組的主要組成部分即為光源,lens,DOE等組成,見圖4。



圖3  vcsel經(jīng)過DOE分束復(fù)制后的大量散斑[6]



圖4  上圖為DOE陣列分束的光路示意圖[5]; 左下圖為一維光柵1*9分束,右下圖為二維光柵5*5分束[7]。


由分束DOE組成的透射器模組,主要服務(wù)于3D深度感測,在結(jié)構(gòu)光方案和dTOF方案中均有應(yīng)用。落地應(yīng)用主要在智能家具掃地機(jī)器人和人臉識別的門鎖,手機(jī)終端的人臉識別和無人機(jī)測繪掃描中。

聚焦

聚焦DOE按照焦點類型分成單焦點,多焦點,連續(xù)聚焦,相比整形DOE在XOY平面的光強(qiáng)調(diào)制,聚焦DOE是在z軸上的光強(qiáng)調(diào)制。在激光加工的應(yīng)用中,切割的材料厚度需要和激光焦深匹配。當(dāng)切割材料過厚對應(yīng)的焦深也要增加,一種辦法就是采用多焦點,另一種就是連續(xù)聚焦。



圖5  上圖為多焦點的光路示意圖;下圖為z軸上3個焦點的分布[8]


隨著自動化加工的要求越來越高,所有切削更高厚度,定制化倒角,以及切割面粗糙度的處理,都對聚焦DOE提出了更高的要求。


工藝加工

一般小FOV的DOE,均可以采用多階化(8階甚至16階)的結(jié)構(gòu)來實現(xiàn)。加工方式可以分成刻蝕DOE以及納米壓印DOE。刻蝕DOE耐熱性,可靠性更高,更適合極端條件下工作,納米壓印DOE成本更低,更適合消費電子類低成本的應(yīng)用。



圖6   DOE的刻蝕模板加工過程

a 掩模版轉(zhuǎn)移到光刻膠上;b 膠結(jié)構(gòu)刻蝕到玻璃基材上

c 得到DOE[6]


[1]Homburg, Oliver et al. “Efficient beam shaping for highpower laser applications.” Laser Technik Journal 4 (2007): 44-47.

[2]Xue, L.; Pang, Y.; Liu, W.; Liu, L.; Pang, H.; Cao, A.; Shi, L.; Fu, Y.; Deng, Q. Fabrication of Random Microlens Array for Laser Beam Homogenization with High Efficiency. Micromachines 2020, 11, 338.

[3]Fienup, James R.. “Phase retrieval algorithms: a comparison.” Applied optics 21 15 (1982): 2758-69.
[4]Rudnaya S , Misemer D , Santosa F .Rational design of a diffractive homogenizer for a laser beam[J].Journalof Engineering Mathematics, 2002,43(2/4) : 189-199.

[5]Katz, S., Kaplan, N. and Grossinger, I. (2018), Using Diffractive Optical Elements. LTJ, 15: 29-32

[6]https://www.digigram.com.tw/en/prd/vesel

[7]Umhofer, Udo, Erwin J?ger and Christian Bischoff. “Refractive and diffractive laser beam shaping optics.” Laser Technik Journal 8 (2011): 24-27.

[8]Doskolovich LL, Bezus EA, Morozov AA, et al. Multifocal diffractive lens generating several fixed foci at different design wavelengths. Optics Express. 2018 Feb;26(4):4698-4709



微納研究所


水晶光電微納研究所,專注于微納光學(xué)新產(chǎn)品市場技術(shù)調(diào)研及研發(fā)工作。通過自編算法與設(shè)計,配備同行業(yè)高端設(shè)備,具備芯片鍍膜、晶圓光刻、干/濕法刻蝕、納米壓印等核心技術(shù)開發(fā)和量產(chǎn)能力。目前微納所已開發(fā)的產(chǎn)品包括DOE、擴(kuò)散片、PBS偏振片、超透鏡等,廣泛應(yīng)用于消費電子、車載HUD等領(lǐng)域,可以根據(jù)客戶需求提供從產(chǎn)品設(shè)計開發(fā)到量產(chǎn)制造一站式服務(wù)。




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